- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
CY-MIOP500S-2TA多弧離子鍍鍍膜儀
多弧離子鍍是利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時(shí)，將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)三者有機(jī)結(jié)合起來(lái)，不僅能明顯地改進(jìn)了膜質(zhì)量，而且還擴(kuò)大了薄膜的應(yīng)用范圍。其具有蒸鍍速率快，薄膜附著力強(qiáng)，繞射性好，膜材廣泛等優(yōu)點(diǎn)。十分適合鍍硬質(zhì)保護(hù)膜如TiN等。同時(shí)由于其通過(guò)控制氣氛可以改變膜層顏色，且膜層與基板結(jié)合牢固，故也可用于制作多種顏色的裝飾性膜。
設(shè)計(jì)特色：
本設(shè)備配有兩個(gè)多弧靶，分置于腔體兩側(cè)。配合行星式樣品臺(tái)可有效的提高鍍膜效率，改善成效果，該鍍膜儀還采用一體化設(shè)計(jì)，腔體和電控部分左右分置，實(shí)現(xiàn)了水電分離，有力的保證了用戶的**。
技術(shù)參數(shù)：
|
產(chǎn)品型號(hào) |
CY-MIOP500S-2TA |
||
|
真空腔體 |
水冷不銹鋼腔體 φ500mm X 490mm（H） 前開(kāi)門(mén)式，配有φ100mm石英觀察窗 內(nèi)置兩組紅外加熱燈，可對(duì)腔體烘烤除氣 預(yù)留多個(gè)CF接口，可安裝多路膜厚儀 |
||
|
進(jìn)氣系統(tǒng) |
質(zhì)量流量計(jì)Ar氣0~200sccm， N2氣0~200sccm其他流量或者氣體可定制 |
||
|
供電要求 |
AC 220V 50Hz 10kW |
||
|
控制方式 |
15英寸觸控屏 組態(tài)控制軟件 |
||
|
多弧靶 |
數(shù)量規(guī)格 |
3英寸x2 |
|
|
安裝方式 |
腔體側(cè)方對(duì)置 |
||
|
工作電流 |
0~150A |
||
|
靶材厚度 |
max50mm，min20mm |
||
|
樣品臺(tái) |
規(guī)格 |
行星式掛架 |
|
|
可懸掛樣品數(shù) |
每支掛架上6個(gè)掛點(diǎn)，共計(jì)6個(gè)掛架 |
||
|
轉(zhuǎn)速 |
公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速1~20rpm |
||
|
真空系統(tǒng)
|
產(chǎn)品型號(hào) |
CY-GZK103-A |
|
|
分子泵 |
渦輪分子泵 |
||
|
前極泵 |
雙極旋片泵 |
||
|
抽氣速率 |
分子泵：600L/S |
綜合抽氣性能：30分鐘真空度可達(dá)：5×10E-3Pa |
|
|
旋片泵：1.1L/S |
|||
|
極限真空 |
5×10E-4Pa |
||
|
抽氣接口 |
KF40 |
||
|
排氣接口 |
KF16 |
||
|
真空測(cè)量 |
復(fù)合真空計(jì) |
||
